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Journal Of Laser Micro Nanoengineering

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影響因子:0.8

年發(fā)文量:32

激光微納米工程學(xué)報 SCIE

Journal Of Laser Micro Nanoengineering

《激光微納米工程學(xué)報》(Journal Of Laser Micro Nanoengineering)是一本以工程技術(shù)-材料科學(xué):綜合綜合研究為特色的國際期刊。該刊由Japan Laser Processing出版商創(chuàng)刊于2006年,刊期Tri-annual。該刊已被國際重要權(quán)威數(shù)據(jù)庫SCIE收錄。期刊聚焦工程技術(shù)-材料科學(xué):綜合領(lǐng)域的重點研究和前沿進展,及時刊載和報道該領(lǐng)域的研究成果,致力于成為該領(lǐng)域同行進行快速學(xué)術(shù)交流的信息窗口與平臺。該刊2023年影響因子為0.8。CiteScore指數(shù)值為1.9。

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期刊簡介預(yù)計審稿時間: 較慢,6-12周

Journal of Laser Micro/Nanoengineering, founded in 2005 by Japan Laser Processing Society (JLPS), is an international online journal for the rapid publication of experimental and theoretical investigations in laser-based technology for micro- and nano-engineering. Access to the full article is provided free of charge.

JLMN publishes regular articles, technical communications, and invited papers about new results related to laser-based technology for micro and nano engineering. The articles oriented to dominantly technical or industrial developments containing interesting and useful information may be considered as technical communications.

《激光微/納米工程雜志》由日本激光加工協(xié)會 (JLPS) 于 2005 年創(chuàng)辦,是一本國際在線雜志,旨在快速發(fā)表激光微納米工程技術(shù)實驗和理論研究成果。全文免費提供。

JLMN 定期發(fā)表與激光微納米工程技術(shù)相關(guān)的新成果的文章、技術(shù)通訊和受邀論文。主要面向技術(shù)或工業(yè)發(fā)展、包含有趣和有用信息的文章可視為技術(shù)通訊。

《Journal Of Laser Micro Nanoengineering》(激光微納米工程學(xué)報)編輯部通訊方式為JAPAN LASER PROCESSING SOC, 11-1 MIHOGAOKA, IBARAKI, OSAKA, JAPAN, 567-0047。如果您需要協(xié)助投稿或潤稿服務(wù),您可以咨詢我們的客服老師。我們專注于期刊咨詢服務(wù)十年,熟悉發(fā)表政策,可為您提供一對一投稿指導(dǎo),避免您在投稿時頻繁碰壁,節(jié)省您的寶貴時間,有效提升發(fā)表機率,確保SCI檢索(檢索不了全額退款)。我們視信譽為生命,多方面確保文章安全保密,在任何情況下都不會泄露您的個人信息或稿件內(nèi)容。

中科院分區(qū)

2023年12月升級版

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
材料科學(xué) 4區(qū) MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

2022年12月升級版

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
材料科學(xué) 4區(qū) MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

2021年12月舊的升級版

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
材料科學(xué) 4區(qū) MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

2021年12月基礎(chǔ)版

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

2021年12月升級版

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
材料科學(xué) 4區(qū) MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

2020年12月舊的升級版

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
材料科學(xué) 4區(qū) MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
名詞解釋:

基礎(chǔ)版:即2019年12月17日,正式發(fā)布的《2019年中國科學(xué)院文獻情報中心期刊分區(qū)表》;將JCR中所有期刊分為13個大類,期刊范圍只有SCI期刊。

升級版:即2020年1月13日,正式發(fā)布的《2019年中國科學(xué)院文獻情報中心期刊分區(qū)表升級版(試行)》,升級版采用了改進后的指標(biāo)方法體系對基礎(chǔ)版的延續(xù)和改進,影響因子不再是分區(qū)的唯一或者決定性因素,也沒有了分區(qū)的IF閾值期刊由基礎(chǔ)版的13個學(xué)科擴展至18個,科研評價將更加明確。期刊范圍有SCI期刊、SSCI期刊。從2022年開始,分區(qū)表將只發(fā)布升級版結(jié)果,不再有基礎(chǔ)版和升級版之分,基礎(chǔ)版和升級版(試行)將過渡共存三年時間。

JCR分區(qū)(2023-2024年最新版)

JCR分區(qū)等級:Q4

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q4 389 / 438

11.3%

學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q4 131 / 140

6.8%

學(xué)科:OPTICS SCIE Q4 104 / 119

13%

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q4 165 / 179

8.1%

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q4 379 / 438

13.58%

學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q4 125 / 140

11.07%

學(xué)科:OPTICS SCIE Q4 110 / 120

8.75%

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q4 160 / 179

10.89%

Gold OA文章占比 研究類文章占比 文章自引率
100.00% 100.00% 0.09...
開源占比 出版國人文章占比 OA被引用占比
1 0.1 --

名詞解釋:JCR分區(qū)在學(xué)術(shù)期刊評價、科研成果展示、科研方向引導(dǎo)以及學(xué)術(shù)交流與合作等方面都具有重要的價值。通過對期刊影響因子的精確計算和細致劃分,JCR分區(qū)能夠清晰地反映出不同期刊在同一學(xué)科領(lǐng)域內(nèi)的相對位置,從而幫助科研人員準(zhǔn)確識別出高質(zhì)量的學(xué)術(shù)期刊。

CiteScore 指數(shù)(2024年最新版)

CiteScore SJR SNIP CiteScore 指數(shù)
1.9 0.198 0.402
學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類:Engineering 小類:Industrial and Manufacturing Engineering Q3 223 / 384

42%

大類:Engineering 小類:Electrical and Electronic Engineering Q3 516 / 797

35%

大類:Engineering 小類:Instrumentation Q4 111 / 141

21%

名詞解釋:CiteScore是基于Scopus數(shù)據(jù)庫的全新期刊評價體系。CiteScore 2021 的計算方式是期刊最近4年(含計算年度)的被引次數(shù)除以該期刊近四年發(fā)表的文獻數(shù)。CiteScore基于全球最廣泛的摘要和引文數(shù)據(jù)庫Scopus,適用于所有連續(xù)出版物,而不僅僅是期刊。目前CiteScore 收錄了超過 26000 種期刊,比獲得影響因子的期刊多13000種。被各界人士認為是影響因子最有力的競爭對手。

數(shù)據(jù)趨勢圖

歷年中科院分區(qū)趨勢圖

歷年IF值(影響因子)

歷年引文指標(biāo)和發(fā)文量

歷年自引數(shù)據(jù)

發(fā)文數(shù)據(jù)

2019-2021年國家/地區(qū)發(fā)文量統(tǒng)計

國家/地區(qū) 數(shù)量
GERMANY (FED REP GER) 58
Japan 21
CHINA MAINLAND 16
Lithuania 7
Russia 6
England 5
USA 5
India 4
Netherlands 4
Taiwan 4

2019-2021年機構(gòu)發(fā)文量統(tǒng)計

機構(gòu) 數(shù)量
FRAUNHOFER GESELLSCHAFT 30
RWTH AACHEN UNIVERSITY 13
TECHNISCHE UNIVERSITAT DRESDEN 10
RUHR UNIVERSITY BOCHUM 7
UNIV APPL SCI ASCHAFFENBURG 7
CENTER FOR PHYSICAL SCIENCES & TECHNOLOG... 6
BOSCH 4
ITMO UNIVERSITY 4
OSAKA UNIVERSITY 4
UNIVERSITY OF TWENTE 4

2019-2021年文章引用數(shù)據(jù)

文章引用名稱 引用次數(shù)
Utilizing Fundamental Beam-Mode Shaping ... 6
High Power Laser Processing with Ultrafa... 6
High-Efficiency Nanostructuring using Mu... 5
Multi Pulse Pump-Probe Diagnostics for D... 5
Biomimetic Anti-adhesive Surface Micro-s... 5
Ablation Characteristics of Alumina and ... 5
Positive Effect of Laser Structured Surf... 4
In-Situ Analysis of Ultrashort Pulsed La... 4
Homogeneous Low Spatial Frequency LIPSS ... 4
Laser-Induced Periodic Surface Structure... 4

2019-2021年文章被引用數(shù)據(jù)

被引用期刊名稱 數(shù)量
J LASER MICRO NANOEN 30
APPL SURF SCI 28
OPT LASER TECHNOL 27
J LASER APPL 20
OPT EXPRESS 18
APPL PHYS A-MATER 16
APPL SCI-BASEL 16
MATERIALS 13
OPT LASER ENG 12
OPT MATER EXPRESS 12

2019-2021年引用數(shù)據(jù)

引用期刊名稱 數(shù)量
APPL PHYS A-MATER 53
APPL SURF SCI 44
OPT EXPRESS 41
OPT LETT 32
J LASER MICRO NANOEN 30
APPL PHYS LETT 24
J APPL PHYS 24
J LASER APPL 18
INT J ADV MANUF TECH 14
TRIBOL INT 13

相關(guān)期刊

免責(zé)聲明

若用戶需要出版服務(wù),請聯(lián)系出版商:JAPAN LASER PROCESSING SOC, 11-1 MIHOGAOKA, IBARAKI, OSAKA, JAPAN, 567-0047。

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