《靜電學(xué)雜志》(Journal Of Electrostatics)是一本以工程技術(shù)-工程：電子與電氣綜合研究為特色的國際期刊。該刊由Elsevier出版商創(chuàng)刊于1975年，刊期Monthly。該刊已被國際重要權(quán)威數(shù)據(jù)庫SCIE收錄。期刊聚焦工程技術(shù)-工程：電子與電氣領(lǐng)域的重點(diǎn)研究和前沿進(jìn)展，及時(shí)刊載和報(bào)道該領(lǐng)域的研究成果，致力于成為該領(lǐng)域同行進(jìn)行快速學(xué)術(shù)交流的信息窗口與平臺。該刊2023年影響因子為1.9。CiteScore指數(shù)值為4。
The Journal of Electrostatics is the leading forum for publishing research findings that advance knowledge in the field of electrostatics. We invite submissions in the following areas:
Electrostatic charge separation processes.
Electrostatic manipulation of particles, droplets, and biological cells.
Electrostatically driven or controlled fluid flow.
Electrostatics in the gas phase.
《靜電學(xué)雜志》是發(fā)表研究成果的主要論壇，這些研究成果推動了靜電學(xué)領(lǐng)域的知識進(jìn)步。我們誠邀您提交以下領(lǐng)域的論文：
靜電荷分離過程。
粒子、液滴和生物細(xì)胞的靜電操控。
靜電驅(qū)動或控制的流體流動。
氣相靜電。
《Journal Of Electrostatics》(靜電學(xué)雜志)編輯部通訊方式為ELSEVIER SCIENCE BV, PO BOX 211, AMSTERDAM, NETHERLANDS, 1000 AE。如果您需要協(xié)助投稿或潤稿服務(wù)，您可以咨詢我們的客服老師。我們專注于期刊咨詢服務(wù)十年，熟悉發(fā)表政策，可為您提供一對一投稿指導(dǎo)，避免您在投稿時(shí)頻繁碰壁，節(jié)省您的寶貴時(shí)間，有效提升發(fā)表機(jī)率，確保SCI檢索（檢索不了全額退款）。我們視信譽(yù)為生命，多方面確保文章安全保密，在任何情況下都不會泄露您的個(gè)人信息或稿件內(nèi)容。
2023年12月升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 | 4區(qū) | 否 | 否 |
2022年12月升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 | 4區(qū) | 否 | 否 |
2021年12月舊的升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 3區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 | 4區(qū) | 否 | 否 |
2021年12月基礎(chǔ)版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 | 4區(qū) | 否 | 否 |
2021年12月升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 3區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 | 4區(qū) | 否 | 否 |
2020年12月舊的升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 | 4區(qū) | 否 | 否 |
基礎(chǔ)版：即2019年12月17日，正式發(fā)布的《2019年中國科學(xué)院文獻(xiàn)情報(bào)中心期刊分區(qū)表》；將JCR中所有期刊分為13個(gè)大類,期刊范圍只有SCI期刊。
升級版：即2020年1月13日，正式發(fā)布的《2019年中國科學(xué)院文獻(xiàn)情報(bào)中心期刊分區(qū)表升級版（試行）》,升級版采用了改進(jìn)后的指標(biāo)方法體系對基礎(chǔ)版的延續(xù)和改進(jìn)，影響因子不再是分區(qū)的唯一或者決定性因素，也沒有了分區(qū)的IF閾值期刊由基礎(chǔ)版的13個(gè)學(xué)科擴(kuò)展至18個(gè)，科研評價(jià)將更加明確。期刊范圍有SCI期刊、SSCI期刊。從2022年開始，分區(qū)表將只發(fā)布升級版結(jié)果，不再有基礎(chǔ)版和升級版之分,基礎(chǔ)版和升級版（試行）將過渡共存三年時(shí)間。
JCR分區(qū)等級：Q3
| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 211 / 352 |
40.2% |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 200 / 354 |
43.64% |
| Gold OA文章占比 | 研究類文章占比 | 文章自引率 |
| 19.59% | 98.11% | 0.11... |
| 開源占比 | 出版國人文章占比 | OA被引用占比 |
| 0.06... | 0.12 | 0.01... |
名詞解釋：JCR分區(qū)在學(xué)術(shù)期刊評價(jià)、科研成果展示、科研方向引導(dǎo)以及學(xué)術(shù)交流與合作等方面都具有重要的價(jià)值。通過對期刊影響因子的精確計(jì)算和細(xì)致劃分，JCR分區(qū)能夠清晰地反映出不同期刊在同一學(xué)科領(lǐng)域內(nèi)的相對位置，從而幫助科研人員準(zhǔn)確識別出高質(zhì)量的學(xué)術(shù)期刊。
| CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore 指數(shù) | ||||||||||||||||||||||||
| 4 | 0.426 | 1.029 |
|
名詞解釋：CiteScore是基于Scopus數(shù)據(jù)庫的全新期刊評價(jià)體系。CiteScore 2021 的計(jì)算方式是期刊最近4年（含計(jì)算年度）的被引次數(shù)除以該期刊近四年發(fā)表的文獻(xiàn)數(shù)。CiteScore基于全球最廣泛的摘要和引文數(shù)據(jù)庫Scopus，適用于所有連續(xù)出版物，而不僅僅是期刊。目前CiteScore 收錄了超過 26000 種期刊，比獲得影響因子的期刊多13000種。被各界人士認(rèn)為是影響因子最有力的競爭對手。
歷年中科院分區(qū)趨勢圖
歷年IF值(影響因子)
歷年引文指標(biāo)和發(fā)文量
歷年自引數(shù)據(jù)
2019-2021年國家/地區(qū)發(fā)文量統(tǒng)計(jì)
| 國家/地區(qū) | 數(shù)量 |
| USA | 45 |
| CHINA MAINLAND | 35 |
| Japan | 25 |
| Russia | 21 |
| France | 18 |
| Iran | 17 |
| Algeria | 13 |
| Canada | 10 |
| Poland | 9 |
| Estonia | 8 |
2019-2021年機(jī)構(gòu)發(fā)文量統(tǒng)計(jì)
| 機(jī)構(gòu) | 數(shù)量 |
| UNIVERSITE DE POITIERS | 14 |
| CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIF... | 12 |
| RUSSIAN ACADEMY OF SCIENCES | 11 |
| ECOLE NATIONALE SUPERIEURE DE MECANIQUE ... | 10 |
| UNIVERSITE CONFEDERALE LEONARD DE VINCI | 10 |
| TALLINN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY | 7 |
| UNIVERSITY DJILLALI LIABES SIDI BEL ABBE... | 7 |
| UNIVERSITY OF OKLAHOMA SYSTEM | 7 |
| WESTERN UNIVERSITY (UNIVERSITY OF WESTER... | 6 |
| NORTH CHINA ELECTRIC POWER UNIVERSITY | 5 |
2019-2021年文章引用數(shù)據(jù)
| 文章引用名稱 | 引用次數(shù) |
| Improvement of an electrostatic cleaning... | 9 |
| Electrohydrodynamic flows in electrostat... | 9 |
| Ionic wind produced by positive and nega... | 7 |
| Efficacy of underwater AC diaphragm disc... | 6 |
| Charged monosized droplet behaviour and ... | 6 |
| Characterization of electrohydrodynamic ... | 6 |
| Kinetic characterization of plasma-enhan... | 5 |
| Influence of particle concentration and ... | 5 |
| Electrospun conductive mats from PANi-io... | 5 |
| A microfluidics device for 3D switching ... | 5 |
2019-2021年文章被引用數(shù)據(jù)
| 被引用期刊名稱 | 數(shù)量 |
| J ELECTROSTAT | 171 |
| POWDER TECHNOL | 126 |
| J PHYS D APPL PHYS | 56 |
| IEEE T PLASMA SCI | 51 |
| NANO ENERGY | 43 |
| INT J HEAT MASS TRAN | 41 |
| ADV POWDER TECHNOL | 40 |
| CHEM ENG SCI | 32 |
| SEP PURIF TECHNOL | 32 |
| APPL SCI-BASEL | 30 |
2019-2021年引用數(shù)據(jù)
| 引用期刊名稱 | 數(shù)量 |
| J ELECTROSTAT | 171 |
| IEEE T IND APPL | 60 |
| J PHYS D APPL PHYS | 43 |
| IEEE T DIELECT EL IN | 40 |
| J APPL PHYS | 34 |
| INT J HEAT MASS TRAN | 32 |
| POWDER TECHNOL | 32 |
| CHEM ENG SCI | 19 |
| IEEE T PLASMA SCI | 19 |
| PLASMA SOURCES SCI T | 19 |
中科院分區(qū)：1區(qū)
影響因子：7.7
審稿周期：約Time to first decision: 9 days; Review time: 64 days; Submission to acceptance: 82 days; 約2.7個(gè)月 約7.8周
中科院分區(qū)：1區(qū)
影響因子：8.1
審稿周期：約Time to first decision: 6 days; Review time: 44 days; Submission to acceptance: 54 days; 約4.1個(gè)月 約6.8周
中科院分區(qū)：3區(qū)
影響因子：3.3
審稿周期：約17.72天 11 Weeks
中科院分區(qū)：1區(qū)
影響因子：98.4
審稿周期： 約3月
中科院分區(qū)：2區(qū)
影響因子：5.8
審稿周期： 約2.4個(gè)月 約7.6周
中科院分區(qū)：2區(qū)
影響因子：5.1
審稿周期： 約1.9個(gè)月 約2.7周
若用戶需要出版服務(wù)，請聯(lián)系出版商：ELSEVIER SCIENCE BV, PO BOX 211, AMSTERDAM, NETHERLANDS, 1000 AE。
