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Ieee Transactions On Plasma Science

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影響因子:1.3

年發文量:419

IEEE Transactions On Plasma Science SCIE

Ieee Transactions On Plasma Science

《IEEE Transactions On Plasma Science》(Ieee Transactions On Plasma Science)是一本以物理:流體與等離子體-物理綜合研究為特色的國際期刊。該刊由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版商創刊于1973年,刊期Bimonthly。該刊已被國際重要權威數據庫SCIE收錄。期刊聚焦物理:流體與等離子體-物理領域的重點研究和前沿進展,及時刊載和報道該領域的研究成果,致力于成為該領域同行進行快速學術交流的信息窗口與平臺。該刊2023年影響因子為1.3。CiteScore指數值為3。

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期刊簡介預計審稿時間: 約3.7個月

The scope covers all aspects of the theory and application of plasma science. It includes the following areas: magnetohydrodynamics; thermionics and plasma diodes; basic plasma phenomena; gaseous electronics; microwave/plasma interaction; electron, ion, and plasma sources; space plasmas; intense electron and ion beams; laser-plasma interactions; plasma diagnostics; plasma chemistry and processing; solid-state plasmas; plasma heating; plasma for controlled fusion research; high energy density plasmas; industrial/commercial applications of plasma physics; plasma waves and instabilities; and high power microwave and submillimeter wave generation.

范圍涵蓋等離子體科學理論和應用的各個方面。它包括以下領域:磁流體力學;熱電子學和等離子體二極管;基本等離子體現象;氣態電子學;微波/等離子體相互作用;電子、離子和等離子體源;空間等離子體;強電子和離子束;激光-等離子體相互作用;等離子體診斷;等離子體化學和加工;固態等離子體;等離子體加熱;用于受控聚變研究的等離子體;高能量密度等離子體;等離子體物理的工業/商業應用;等離子體波和不穩定性;以及高功率微波和亞毫米波的產生。

《Ieee Transactions On Plasma Science》(IEEE Transactions On Plasma Science)編輯部通訊方式為IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141。如果您需要協助投稿或潤稿服務,您可以咨詢我們的客服老師。我們專注于期刊咨詢服務十年,熟悉發表政策,可為您提供一對一投稿指導,避免您在投稿時頻繁碰壁,節省您的寶貴時間,有效提升發表機率,確保SCI檢索(檢索不了全額退款)。我們視信譽為生命,多方面確保文章安全保密,在任何情況下都不會泄露您的個人信息或稿件內容。

中科院分區

2023年12月升級版

大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 4區 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區

2022年12月升級版

大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 3區 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區

2021年12月舊的升級版

大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 3區 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區

2021年12月基礎版

大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
物理 4區 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區

2021年12月升級版

大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 3區 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區

2020年12月舊的升級版

大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 3區 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區
名詞解釋:

基礎版:即2019年12月17日,正式發布的《2019年中國科學院文獻情報中心期刊分區表》;將JCR中所有期刊分為13個大類,期刊范圍只有SCI期刊。

升級版:即2020年1月13日,正式發布的《2019年中國科學院文獻情報中心期刊分區表升級版(試行)》,升級版采用了改進后的指標方法體系對基礎版的延續和改進,影響因子不再是分區的唯一或者決定性因素,也沒有了分區的IF閾值期刊由基礎版的13個學科擴展至18個,科研評價將更加明確。期刊范圍有SCI期刊、SSCI期刊。從2022年開始,分區表將只發布升級版結果,不再有基礎版和升級版之分,基礎版和升級版(試行)將過渡共存三年時間。

JCR分區(2023-2024年最新版)

JCR分區等級:Q3

按JIF指標學科分區 收錄子集 分區 排名 百分位
學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q3 29 / 40

28.7%

按JCI指標學科分區 收錄子集 分區 排名 百分位
學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q3 30 / 40

26.25%

Gold OA文章占比 研究類文章占比 文章自引率
3.86% 99.05% 0.2
開源占比 出版國人文章占比 OA被引用占比
0.07... -- 0.00...

名詞解釋:JCR分區在學術期刊評價、科研成果展示、科研方向引導以及學術交流與合作等方面都具有重要的價值。通過對期刊影響因子的精確計算和細致劃分,JCR分區能夠清晰地反映出不同期刊在同一學科領域內的相對位置,從而幫助科研人員準確識別出高質量的學術期刊。

CiteScore 指數(2024年最新版)

CiteScore SJR SNIP CiteScore 指數
3 0.417 0.861
學科類別 分區 排名 百分位
大類:Physics and Astronomy 小類:Nuclear and High Energy Physics Q2 42 / 87

52%

大類:Physics and Astronomy 小類:Condensed Matter Physics Q3 247 / 434

43%

名詞解釋:CiteScore是基于Scopus數據庫的全新期刊評價體系。CiteScore 2021 的計算方式是期刊最近4年(含計算年度)的被引次數除以該期刊近四年發表的文獻數。CiteScore基于全球最廣泛的摘要和引文數據庫Scopus,適用于所有連續出版物,而不僅僅是期刊。目前CiteScore 收錄了超過 26000 種期刊,比獲得影響因子的期刊多13000種。被各界人士認為是影響因子最有力的競爭對手。

數據趨勢圖

歷年中科院分區趨勢圖

歷年IF值(影響因子)

歷年引文指標和發文量

歷年自引數據

發文數據

2019-2021年文章引用數據

文章引用名稱 引用次數
Overview of the HCPB Research Activities... 12
Two-Wave Cherenkov Oscillator With Moder... 12
High-Performance Filtering Antenna Using... 11
Neutron Diagnostics in the Large Helical... 10
Characterization of a Compact, Low-Cost ... 10
A Primer on Pulsed Power and Linear Tran... 10
Preparation and Commissioning for the LH... 9
Recent Progress in the WCLL Breeding Bla... 9
Corona Discharge-Induced Rain and Snow F... 9
Bifurcation Analysis for Dust-Acoustic W... 8

2019-2021年文章被引用數據

被引用期刊名稱 數量
IEEE T PLASMA SCI 2237
PHYS PLASMAS 585
J PHYS D APPL PHYS 364
PLASMA SOURCES SCI T 296
J APPL PHYS 236
AIP ADV 211
FUSION ENG DES 209
IEEE ACCESS 201
IEEE T ELECTRON DEV 180
PLASMA SCI TECHNOL 172

2019-2021年引用數據

引用期刊名稱 數量
IEEE T PLASMA SCI 2237
PHYS PLASMAS 882
J PHYS D APPL PHYS 759
IEEE T MAGN 593
J APPL PHYS 583
PLASMA SOURCES SCI T 427
APPL PHYS LETT 341
PHYS REV LETT 300
REV SCI INSTRUM 278
IEEE T DIELECT EL IN 268

相關期刊

免責聲明

若用戶需要出版服務,請聯系出版商:IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141。

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